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ITO激光刻蝕技術(shù)講解

發(fā)布時(shí)間:2018-07-02 來(lái)源:元祿光電

ITO薄膜是指銦錫氧化物的半導(dǎo)體透明導(dǎo)電薄膜,通常在將ITO薄膜鍍?cè)谟袡C(jī)薄膜PET、玻璃和硬性塑料基板上,厚度只有幾千埃(300-500nm)。在這些材料商鍍銦錫氧化物的電阻率極低、可見(jiàn)光高透過(guò)率以及紫外光高發(fā)射率的優(yōu)質(zhì)特性,被廣泛應(yīng)用到消費(fèi)電子領(lǐng)域的觸摸屏行業(yè)中。

 

鍍有ITO薄膜的基材刻線后由上下層線路組合,各自布線X軸與Y軸,兩層線路中間由極小的絕緣點(diǎn)作為隔層,經(jīng)組裝貼合后,對(duì)上方導(dǎo)電膜施以壓力,造成上下X軸與Y軸短路,因而改變其電壓值且產(chǎn)生信號(hào),再經(jīng)由控制器計(jì)算受壓之處相對(duì)坐標(biāo)位置,此便是ITO觸摸屏的使用。

 

那么如何在這種ITO薄膜上進(jìn)行加工刻線呢?傳統(tǒng)的ITO刻線采用的是化學(xué)試劑刻蝕,這種方法逐漸被淘汰,主要是其廢品率高,成本高。慢慢開(kāi)始偏向于成本低、無(wú)污染、易操作、良品率高的激光刻蝕技術(shù)。

 

激光刻蝕的原理是通過(guò)調(diào)節(jié)高能激光束的焦點(diǎn)位置,使直接作用于ITO薄膜層,使得ITO層瞬間氣化,從而達(dá)到蝕刻的效果,同時(shí)由于激光能量的可調(diào)性質(zhì),這就使得在加工過(guò)程中不會(huì)對(duì)底部的襯底材料造成影響。這種方式相比較于化學(xué)試劑刻蝕體積更加小巧、易操作、成本低、良品率高。

 

通過(guò)電腦軟件控制,導(dǎo)入繪制好的ITO線路層的圖形即繪制激光蝕刻圖檔,上料后,調(diào)整好參數(shù),即可對(duì)其進(jìn)行加工,并對(duì)其進(jìn)行檢測(cè),保存好設(shè)置的參數(shù),即可進(jìn)行批量加工,同批次的產(chǎn)品無(wú)需再次調(diào)整參數(shù)既可實(shí)現(xiàn)批量的生產(chǎn),大大提高的工作效率和良品率。

 

隨著技術(shù)的發(fā)展,在觸摸屏ITO行業(yè)中的精度要求越來(lái)越高,集成化也越來(lái)越高端,傳統(tǒng)的刻線方式已漸漸無(wú)法滿足要求,而新型的激光刻蝕方式已逐漸成為主流,其精度在工業(yè)應(yīng)用中已能達(dá)到15μm ITO激光刻蝕機(jī)已成為行業(yè)中的主力軍。


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